王行行

讲师

专业：等离子体物理

方向：功能薄膜制备与表征，等离子体诊断

Email：whh26132@126.com

地址：河南省平顶山市未来路南段平顶山学院

邮编：467000

个人简介

王行行，博士，讲师，研究方向为功能薄膜的制备与表征、等离子体诊断。在功能薄膜的制备与表征方面，主要采用材料基因组的方法研究碳化硅薄膜的半导体性能、机械性能和高温抗氧化性能；在等离子体诊断方面，主要通过静电探针和发射光谱对射频和微波等离子体进行诊断研究。

教育经历

2012.09—2022.06 大连理工大学 物理学院 博士

2010.09—2012.09 大连理工大学 物理与光电工程学院 硕士

2006.09—2010.09 河南科技大学 物理工程学院 本科

工作经历

2022.08—至今 平顶山学院 讲师

科研项目与获奖

论文、专著与专利

1.Wang hanghang, Zhang Liyan, Lu Wenqi, et al. Continuous compositional spread investigation of SiC-based thin films prepared by MW-ECR plasma enhanced magnetron co-sputtering [J]. Plasma Science and Technology, 2020, 22(3): 034010.

2. Wang hanghang, Lu Wenqi, Zhang jiao, et al. Comparative Study of High Temperature Anti-oxidation Property of Sputtering Deposited Stoichiometric and Si-rich SiC Films [J]. Chinese Physics B, 2022, 31(4):048103

3.Pang Jianhua, Lu Wenqi, Xin Yu,Wang hanghang, et al. Plasma diagnosis for microwave ECR plasma enhanced sputtering deposition of DLC films [J]. Plasma Science and Technology, 2012, 14(2): 172.

4.Zhang Yu,Xu jun, Zhou Dayu,Wang hanghang, et al. Structural and electrical properties of reactive magnetron sputtered yttrium-doped HfO2 films [J]. Chinese Physics B, 2018, 27(4): 048103.

5.谭伟, 徐军, 王行行, 等. 射频反应磁控溅射制备AlN 多晶薄膜及其择优取向研究[J]. 真空科学与技术学报, 2016 (10): 1092-1098.

主讲课程

《工程电磁场》

《大学物理》